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双氧水型铜抛光液稳定剂

双氧水型(过氧化氢)铜抛光液专用稳定剂



谷氨酸二乙酸四钠GLDA-Na、甲基甘氨酸二乙酸三钠MGDA-Na、天冬氨酸二乙酸四钠ASDA-Na、亚氨基二琥珀酸四钠IDS-Na,替代传统的EDTA/DTPA等,环保可降解。


在各种铜抛光的工艺中,双氧水型铜抛光是一种比较先进、清洁的工艺。其替代了传统的强酸抛光等,因而更加环保,而且抛光效果比较好,其剩余残液也比较容易处理。


一般的双氧水型铜抛光,工作液配比为:双氧水(商品浓度)用量50%左右,加少量硝酸及柠檬酸,抛光光亮剂为6-8%左右,其余为去离子水。但由于双氧水的不稳定,特别是在有一定温度,并且铜离子存在的溶液中,容易引起双氧水的无效分解或剧烈分解,从而导致抛光效果下降。(或有些单位认为需用进口双氧水)


双氧水型铜抛光液的专用稳定剂,其能控制双氧水平稳分解,尽量减少双氧水的无效分解,从而提高抛光质量,亦可以减少双氧水和光亮剂的使用量。而专用稳定剂本身为环保可降解物质。